輝納涂層HINa-Carbon系列PVD涂層設(shè)備是一款提供高品質(zhì)、工業(yè)級(jí)的類(lèi)金剛石(DLC)薄膜涂層設(shè)備，集增強(qiáng)型磁控濺射與離子束等多種技術(shù)為一體，采用輝納涂層自主研發(fā)的獨(dú)特工藝和設(shè)計(jì)，HiNa-Carbon涂層設(shè)備所提供的涂層產(chǎn)品可應(yīng)用于自動(dòng)化零部件、汽車(chē)零部件、紡織零部件及刀具等領(lǐng)域。輝納涂層提供的HiNa-Carbon涂層設(shè)備本身具有良好的工藝穩(wěn)定性，也可根據(jù)客戶(hù)需求量身定制相關(guān)工藝，以滿(mǎn)足客戶(hù)的市場(chǎng)需求。
| HiNa-Carbon 標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備的基本參數(shù) |
涂層設(shè)備總體尺寸（毫米） | 2400(寬）x2400(深)x2000(高) |
設(shè)備功率 | 50(千瓦),380(伏)三相 |
壓縮空氣和冷卻水 | 0.46~0.60兆帕，1.5立方米/每分鐘 靶源冷卻25°C，腔體冷卻35°C |
真空抽氣系統(tǒng) | 機(jī)械選片泵1臺(tái) 分子泵1臺(tái) | 200立方米/小時(shí) 2500升/秒 | 無(wú)負(fù)載系統(tǒng)極限真空 1.0x10-4帕 |
真空測(cè)量系統(tǒng) | 低真空/電阻規(guī)/2路 高真空/離子規(guī)/1路 |
鍍膜離子源和電源（電源可根據(jù)客戶(hù)需求自選） | 磁控濺射源1套 離子束源2套 磁控濺射電源1套 離子束電源2套 偏壓電源1套 | 靶源尺寸664x85毫米 陽(yáng)極層離子束 直流電源 高壓直流脈沖電源 | 靶功率<10千瓦 有效工作電壓1500伏 電源功率10千瓦，占空比0~90%，頻率40千赫茲 |
工藝氣體 | 獨(dú)立2路，質(zhì)量流量控制器MFC（可根據(jù)客戶(hù)需要增加獨(dú)立氣路） |
工件轉(zhuǎn)架 | 2套、帶12個(gè)直徑120毫米可獨(dú)立轉(zhuǎn)動(dòng)的行星轉(zhuǎn)塔，可連同被鍍工件整體裝卸，轉(zhuǎn)速~10轉(zhuǎn)分鐘，轉(zhuǎn)架尺寸直徑730毫米，承載重量350公斤 |
鍍膜機(jī)控制系統(tǒng) | PLC控制系統(tǒng)+工業(yè)PC/PLC 系統(tǒng)具備全自動(dòng)，手動(dòng)和維護(hù)3種操作模式 所以所有運(yùn)行參數(shù)記錄于電腦之中供分析查閱 開(kāi)放式軟件界面，用戶(hù)可自行開(kāi)發(fā)工藝 |
涂層工藝 | 隨機(jī)附送應(yīng)用于汽車(chē)零部件和工具上的類(lèi)金剛石(DLC)涂層工藝和輔助工藝 |
輝納涂層HINa-Metal系列PVD金屬硬質(zhì)膜涂層設(shè)備采用的增強(qiáng)型磁控陰極弧技術(shù)，該系列設(shè)備可完成的涂層覆蓋各類(lèi)金屬涂層如：氮化鈦(TiN),氮化鋁鈦(TiAlN),氮化鉻鋁鈦(TiAlCrN),氮鉻鋁鈦(AlCrN）,氮化鉻(CrN),氮碳化鈦(TiCN)等等，此類(lèi)薄膜可廣泛用于刀具、工具、模具和有高耐磨要求的零部件。Hi-Metal系列涂層設(shè)備是一款具有良好穩(wěn)定性和高度自動(dòng)化程度的工業(yè)硬質(zhì)膜涂層設(shè)備
| HiNa-Metal 標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備的基本參數(shù) |
涂層設(shè)備總體尺寸（毫米） | 2400(寬）x2400(深)x2000(高) |
設(shè)備功率 | 50(千瓦),380(伏)三相 |
壓縮空氣和冷卻水 | 0.46~0.60兆帕，1.5立方米/每分鐘 靶源冷卻25°C，腔體冷卻35°C |
真空抽氣系統(tǒng) | 機(jī)械選片泵1臺(tái) 分子泵1臺(tái) | 200立方米/小時(shí) 2500升/秒 | 無(wú)負(fù)載系統(tǒng)極限真空 1.0x10-4帕 |
真空測(cè)量系統(tǒng) | 低真空/電阻規(guī)/2路 高真空/離子規(guī)/1路 |
磁控陰極靶和電源（電源可根據(jù)客戶(hù)需求自選） | 平面增強(qiáng)型磁控陰極弧3套 陰極弧電源3套 偏壓電源1套 陰極弧靶的數(shù)量最多4個(gè) | 靶源尺寸根據(jù)客戶(hù)要求自選 直流弧電源 高壓直流脈沖電源 | 靶電流<150安倍 有效工作電壓25伏 有效工作電流180安倍 10千瓦，占空比0~90%，頻率40千赫茲 |
工藝氣體 | 獨(dú)立3路，質(zhì)量流量控制器MFC（可根據(jù)客戶(hù)需要增加獨(dú)立氣路） |
工件轉(zhuǎn)架 | 2套、帶8個(gè)直徑120毫米可獨(dú)立轉(zhuǎn)動(dòng)的行星轉(zhuǎn)塔，可連同被鍍工件整體裝卸，轉(zhuǎn)速~10轉(zhuǎn)分鐘，轉(zhuǎn)架尺寸直徑520毫米，承載重量350公斤 |
鍍膜機(jī)控制系統(tǒng) | PLC控制系統(tǒng)+工業(yè)PC/PLC 系統(tǒng)具備全自動(dòng)，手動(dòng)和維護(hù)3種操作模式 所以所有運(yùn)行參數(shù)記錄于電腦之中供分析查閱 開(kāi)放式軟件界面，用戶(hù)可自行開(kāi)發(fā)工藝 |
涂層工藝 | 隨機(jī)附送4套成熟類(lèi)金剛石DLC涂層工藝和輔助工藝 |
為客戶(hù)提供各類(lèi)離子源系統(tǒng)
如: 增強(qiáng)型陰極弧源
過(guò)濾型陰極弧源
陽(yáng)極層離子束源
磁控濺射源 等等
為客戶(hù)提供量身定制的等離子刻蝕設(shè)備，可運(yùn)用于半導(dǎo)體，電子行業(yè)
為客戶(hù)提供各類(lèi)薄膜檢測(cè)儀器
如：涂層厚度球磨檢測(cè)儀等
